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化学清洗的重要性

工艺实验中的每个实验都有化学清洗的问题。化学清洗的质量对实验结果有严重影响。如果过程处理不当，将得不到实验结果或实验结果很差。因此，了解化学清洗的作用和原理对工艺实验具有重要意义。众所周知，半导体的重要特性之一是对杂质非常敏感。只要有百万分之一甚至少量的杂质，就会对半导体的物理性能产生影响。方法。各种功能半导体器件的制造。但也正是因为这个特点，给半导体器件的工艺实验带来了麻烦和困难。用于清洁的化学试剂、生产工具和水可能成为有害杂质的来源。即使是干净的半导体晶圆更长时间暴露在空气中也会引入明显的污染物。化学清洗是去除有害杂质，保持硅片表面清洁。

储油罐机械清洗技术的介绍 储油罐机械清洗的过程及准备 通过机械清洗设备将储油罐底部的石油转移到专门用来接收油品的油罐，然后将储油罐内剩下的凝固油通过清洗油送到过滤器处，将凝固油中的杂质过滤掉再转送到专门的接收油罐，接着用温水对储油罐进行多次清洗，多次温水清洗可以使储油罐符合动火条件。清洗过程中需要持续不断地向储油罐内注入惰性气体，同时配备相应的氧气机可燃气体的检测设备，保证氧气浓度能够保持在一个恒定的值，不超过限 制规定值，防止发生炸事件，使机械清洗设备能够安 全的运行。

应选择隔离防毒面具进行油箱外空气呼吸。呼吸管直径一般大于20毫米，长度不小于20米。防毒面具和防护物品应具有适当的尺寸和良好的性能，并在使用时应严格遵守产品说明的技术规定。使用前应仔细检查防毒设备和防护设备。严格禁止清洁工在工作前饮酒。工人应该每天饭前在的地方洗个澡、换衣服、换工作服、用肥皂洗脸、洗手、刷牙、漱口，然后吃饭。