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化学清洗

在半导体器件工艺实验中。化学清洗是指去除吸附在半导体、金属材料和器具表面的各种有害杂质或油渍。清洗方法是利用各种化学试剂和有机助熔剂，使吸附在被清洗物体表面的杂质和油类发生化学反应溶解，或辅以超声波、加热、真空等物理措施，将杂质除去。从要清洁的物体。表面解吸（或解吸），然后用大量高纯冷热去离子水冲洗，得到干净的表面。

为防止坦克(塔顶)顶部框架与附件、工具或其他物体落在操作者身上，施工人员必须戴上头盔。在清除污染时，操作人员应穿工作鞋，以防落物或搬运过程中损坏脚趾和皮肤。防止从脚手架、斜梯或油面上行走时发生滑倒或撞伤。使用隔离式呼吸器时，软管的末端须放置在新鲜的上层空气中，并须适当地施加空气供应压力，同时须进行过滤，以防止吸入空气中的沙粒而对面部造成伤害。手动起油污染时，麻绳的抗拉强度应大于载荷的5倍，每次操作时应检查断股和机械损伤。带救生讯号的绳索须系在操作者的腰部，而绳索的末端须留在液舱(塔楼)外，以供即时拯救。

清理油罐机床设备主运动传动系统的起动转矩一般都比较小，因此，原则上可采用任何一种起动方式。对于它的辅助运动，在起动时往往要克服较大的静转矩，必要时也可选用高起动转矩的电动机，或采用提高起动转矩的措施。另外，还要考虑电网容量。对电网容量不大面起动电流较大的电动机，一定要采取限制起动电流的措施，如起动，自耦调压器起动定子回路串电阻减压起动等，以免电网电压波动较大而造成事故。传动电动机是否需要制动，应视机床设备工作循环的长短而定。