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化学清洗的重要性

工艺实验中的每个实验都有化学清洗的问题。化学清洗的质量对实验结果有严重影响。如果过程处理不当，将得不到实验结果或实验结果很差。因此，了解化学清洗的作用和原理对工艺实验具有重要意义。众所周知，半导体的重要特性之一是对杂质非常敏感。只要有百万分之一甚至少量的杂质，就会对半导体的物理性能产生影响。方法。各种功能半导体器件的制造。但也正是因为这个特点，给半导体器件的工艺实验带来了麻烦和困难。用于清洁的化学试剂、生产工具和水可能成为有害杂质的来源。即使是干净的半导体晶圆更长时间暴露在空气中也会引入明显的污染物。化学清洗是去除有害杂质，保持硅片表面清洁。

储油罐机械清洗技术的介绍 储油罐机械清洗的过程及准备 通过机械清洗设备将储油罐底部的石油转移到专门用来接收油品的油罐，然后将储油罐内剩下的凝固油通过清洗油送到过滤器处，将凝固油中的杂质过滤掉再转送到专门的接收油罐，接着用温水对储油罐进行多次清洗，多次温水清洗可以使储油罐符合动火条件。清洗过程中需要持续不断地向储油罐内注入惰性气体，同时配备相应的氧气机可燃气体的检测设备，保证氧气浓度能够保持在一个恒定的值，不超过限 制规定值，防止发生炸事件，使机械清洗设备能够安 全的运行。

技术建设的主要步骤如下：

　　1、设备安装

　　设备和管道的安装应根据临时铺设管道图纸，试压整个系统的运行，以达到无泄漏的密闭状态，并安装电气系统、氧气和可燃气体检测系统。

　　2、油移送

　　将清洗后的油罐中的流动通过系统的输送模块输送到回收罐，进行清洗操作。

　　3、油搅拌

　　提供给储罐的由系统的清洁模块加热。加压后，清洗后的罐内硬溶凝固油被清洗机粉碎溶解，使在输送到储罐后具有良好的流动性。

　　4、同种油清洗

　　通过清洗系统的清洗模块，对供给罐内的进行加热加压，然后由清洗机将罐内各部分的凝固油溶解，使其分散流动，再经输送模块过滤后输送至回收罐。

　　5、温水清洗

　　系统清洗模块对预先加入油水分离罐的净水进行加热加压后，用清洗机清洗储罐各部位，然后利用油水分离罐将温水清洗循环过程中的油水混合物分离，分离出的泵入回收罐，分离出的水继续用温水清洗，直到达到清洗标准的要求。