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化学清洗的重要性

工艺实验中的每个实验都有化学清洗的问题。化学清洗的质量对实验结果有严重影响。如果过程处理不当，将得不到实验结果或实验结果很差。因此，了解化学清洗的作用和原理对工艺实验具有重要意义。众所周知，半导体的重要特性之一是对杂质非常敏感。只要有百万分之一甚至少量的杂质，就会对半导体的物理性能产生影响。方法。各种功能半导体器件的制造。但也正是因为这个特点，给半导体器件的工艺实验带来了麻烦和困难。用于清洁的化学试剂、生产工具和水可能成为有害杂质的来源。即使是干净的半导体晶圆更长时间暴露在空气中也会引入明显的污染物。化学清洗是去除有害杂质，保持硅片表面清洁。

清洗媒介

湿式清洗和干式清洗

1.一般将在液体介质中进行的清洗称为湿式清洗，传统的清洗方式大多为湿式清洗。

2.在气体介质中进行的清洗称为干式清洗，如激光清洗、紫外线清洗、等离子清洗、干冰清洗等，

缓蚀剂是在腐蚀性介质中，加入少量的某种物质，能使金属的腐蚀速度大大降低，这种物质称为缓蚀剂。这种保护金属的方法，称为缓蚀剂保。

制药行业的清洗

管道、反应釜、混合器、反应清洗器、过滤器、蒸发器、压缩机、凝汽器、蒸馏器清洗

水泥厂、建筑材料的清洗

输送线、料箱、冷却槽、预热器、旋转炉、容器、挤压机、冷却器清洗

行业的清洗

干燥器、蒸汽管线、换热器、上水及排污管道、加湿水系统、空压机等清洗

食品工业的清洗

发酵罐、洗瓶机、冷热水系统、输水管线、生产线、食品烤箱、冷凝器、冷却器清洗、结晶器清洗、凉水塔、蒸发罐清洗、冷库水系统清洗