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化学方法化学方法就是针对湖泊中的污染特征，投放相应的化学药剂应用化学反应除去污染物质而净化水质的方法，常用的化学方法有：对于磷元素超标，可以通过投放硫酸铝，去除磷元素；针对湖水酸化，通过投放石灰来进行处理；对于重金属元素，常常投放石灰和等；投放氧化剂来将物转化为或者毒性较小的化合物，常用的有二氧化氯次或者次氯酸钙高和臭氧，但需要注意的是化学方法处理虽然操作简单，但费用较高，而且清理油罐往往容易造成二次污染生物方法生物方法也称生物强化法，主要是依靠湖水中的生物，增强湖水的自净能力，从而达到恢复整个系统的方法深水曝气技术。当湖泊出现富营养化现象时，往往是水体溶解氧大幅降低，底层甚至出现厌氧状态。深水曝气便是通过机械方法将水抽取上来，进行曝气，之后回灌，或者注入纯氧和空气，使得水中的溶解氧增加，厌氧环境为好氧环境，使藻类数量减少，水华程度明显减轻。水生植物。水生植物是湖泊中主要的初级生产者之一，往往是决定湖泊系统稳定的关键因素。

化学清洗的重要性

工艺实验中的每个实验都有化学清洗的问题。化学清洗的质量对实验结果有严重影响。如果过程处理不当，将得不到实验结果或实验结果很差。因此，了解化学清洗的作用和原理对工艺实验具有重要意义。众所周知，半导体的重要特性之一是对杂质非常敏感。只要有百万分之一甚至少量的杂质，就会对半导体的物理性能产生影响。方法。各种功能半导体器件的制造。但也正是因为这个特点，给半导体器件的工艺实验带来了麻烦和困难。用于清洁的化学试剂、生产工具和水可能成为有害杂质的来源。即使是干净的半导体晶圆更长时间暴露在空气中也会引入明显的污染物。化学清洗是去除有害杂质，保持硅片表面清洁。

电子清洗法防垢、除垢原理是:利用高频电场改变水的分子结构，使其防垢和除垢。当水通过高频电场时，其分子物理结构发生了变化，原来的缔合链状大分子，断裂成单个水分子，水中盐类的正负离子被单个水分子包围，运动速度降低，有效碰撞次数减少，静电引力下降，无法在受热壁式管面上结构，从而达到防垢目的。同时由于水分子偶极矩增大，使其与盐的正负离子(水垢分子吸合能力增大，使受热面或管壁上的水垢变得松软，容易脱落，产生了除垢的效果。